當製程發生變異時，快速偵測變異能有效的降低不良品的發生。雙次抽樣的X-bar管制圖能用少量的樣本數來達到快速偵測偏移，以降低抽樣檢驗時間和成本的花費。在實際生產流程中，樣本觀測值大都是存在著相關性的，使得X-bar管制圖的型Ⅰ誤差增加。本研究論述以雙次抽樣X-bar管制圖為基礎，導入樣本資料的相關性結構，來建構在相關性製程資料下雙次抽樣X-bar管制圖統計性設計模式，考量製程為穩定與偏移狀態的抽樣數，使二個目標函數最小化，利用數學多目標規劃配合基因演算法來進行相關性的雙次抽樣X-bar管制圖的統計性設計。並以真實的IC封裝製程案例來說明雙次抽樣X-bar管制圖的統計性設計模式之應用和評估製程監控績效。本研究提出的相關性的雙次抽樣X-bar管制圖的設計對於抽樣數有顯著的改善。